UNIPOL-1000D雙盤壓力研磨拋光機
簡要描述:UNIPOL-1000D雙盤壓力研磨拋光機主要用于材料研究領(lǐng)域,廣泛使用于大專院校、科研院所實驗室的金屬、陶瓷、玻璃、紅外光學(xué)材料(如硒化鋅、硫化鋅、硅、鍺等晶體)、巖樣、礦樣、有機高分子材料、復(fù)合材料等材料樣品的自動研磨拋光,以及工廠的小規(guī)模生產(chǎn)等。
產(chǎn)品型號:
所屬分類:拋光機
更新時間:2024-11-05
廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家
UNIPOL-1000D雙盤壓力研磨拋光機主要用于材料研究領(lǐng)域,廣泛使用于大專院校、科研院所實驗室的金屬、
陶瓷、玻璃、巖樣、礦樣、有機高分子材料、復(fù)合材料等材料樣品的自動研磨拋光,以及工廠的小規(guī)模生產(chǎn)等。
UNIPOL-1000D雙盤壓力研磨拋光機設(shè)有兩個研磨拋光工位,可以分別進(jìn)行研磨、拋光操作,既避免了交叉污染,又提高了工作效率。本機采用機械加壓模式對被研磨樣品加壓,壓力施加于載物盤的中心,使整個載物盤受力均勻。通過手觸控制屏
對設(shè)備進(jìn)行控制,上盤可以進(jìn)行順時針旋轉(zhuǎn)也可以進(jìn)行逆時針旋轉(zhuǎn),下盤作順時針旋轉(zhuǎn),通過樣品盤的材質(zhì)不同
可以選擇上盤的旋轉(zhuǎn)方向。機器工作過程中噪音小,具有研磨定時功能,時間到機器自動停止,可以實現(xiàn)無人看
守工作。
性能指標(biāo)和基本配置 | |||||
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安裝條件 | ● 本設(shè)備要求在海拔1000m以下,溫度25℃±15℃,濕度55%Rh±10%Rh下使用。 | ||||
主要特點 | ● 設(shè)有兩個研磨拋光工位,可分別進(jìn)行研磨、拋光操作。 | ||||
技術(shù)參數(shù) | ● 電源:220V 50Hz | ||||
產(chǎn)品尺寸 | 780mm×590mm×750mm | ||||
產(chǎn)品重量 | 100kg | ||||
標(biāo)準(zhǔn)配件 | 1 | 鑄鋁拋光盤 | 2個 | ||
2 | 平載物盤 | 1個 | |||
3 | 桃型孔載物盤 | 1個 | |||
4 | 磁力片 | 4片 | |||
5 | 研拋底片 | 6片 | |||
6 | 砂紙(240#、400#、800#、1500#) | 各2片 | |||
7 | 拋光墊(磨砂革、合成革、聚氨酯) | 各2片 | |||
8 | 金剛石拋光膏(W2.5) | 1支 | |||
可選配件 | ● SKZD-2滴料器 |
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